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國產(chǎn)光刻機巨頭，才發(fā)運先進光刻機，就被美列入“未經(jīng)核實清單”

2022-02-09 10:53

今日，眾多媒體報道稱，在美國當(dāng)?shù)貢r間2月7日，美國商務(wù)部工業(yè)與安全局（BIS）發(fā)表聲明，宣布將33個總部在中國的實體列入“未經(jīng)核實清單（Unverified List，UVL）”。

這33家企業(yè)主要包括電子、光學(xué)、藥研等高新技術(shù)企業(yè)及大學(xué)實驗室等，意義很明顯，就是打壓中國高科技，限制這些高精尖的科技發(fā)展。

國產(chǎn)光刻機巨頭，才發(fā)運先進光刻機，就被美列入“未經(jīng)核實清單”

而這33家企業(yè)中，我國先進光刻機供應(yīng)商上海微電子亦在其中。

事實上，在北京時間2月7日，上海微電子是有一件大事情發(fā)生的，那就是舉行了中國首臺2．5D／3D先進封裝光刻機的發(fā)運儀式。

這臺最先進的先進封裝光刻機，主要用于高端數(shù)據(jù)中心高性能計算（HPC）和高端AI芯片等高密度異構(gòu)集成領(lǐng)域，可滿足2．5D／3D的先進封裝，據(jù)稱是行業(yè)內(nèi)同類產(chǎn)品的最高水平。

國產(chǎn)光刻機巨頭，才發(fā)運先進光刻機，就被美列入“未經(jīng)核實清單”

不過大家要注意的是，先進封裝光刻機，并不等同于先進芯片制造的光刻機，這是兩碼事。

我們平時指的ASML的EUV光刻機，是指前道光刻機，用于晶圓的制造，目前上海微電子對外公開的前道光刻機型號是SSA600／20，只能用于90nm的分辨率，落后ASML的EUV光刻機，至少是10年以上的差距。

而封裝光刻機，是指后道光刻機，是用于芯片制造后的封測階段，其技術(shù)難度是不一樣的，且兩種光刻機的原理也不一樣的。

國產(chǎn)光刻機巨頭，才發(fā)運先進光刻機，就被美列入“未經(jīng)核實清單”

至于為何美國要將上海微電子列入“未經(jīng)核實清單”？原因我們可以分析一二。

按照說法，列入這一清單的公司如果要向美國企業(yè)采購產(chǎn)品，必須獲得許可證。如果這些公司想要從名單中除名，就必須允許美國政府對其進行檢查。而如果要獲得美國供應(yīng)商的元件，就必須出具聲明，證明自己為合法且愿意遵守美國法規(guī)

通過以上這三點，想必大家明白了吧，根本就是打壓中國高科技，不想讓我們發(fā)展，或者通過檢查等手機，掌握對方的一些商業(yè)機密，更進一步進行精準(zhǔn)打擊，或者進行掌控。

原文標(biāo)題 : 國產(chǎn)光刻機巨頭，才發(fā)運先進光刻機，就被美列入“未經(jīng)核實清單”

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